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经营范围
发明名称
含有具鎓基之矽的光阻下层膜形成组成物
摘要
申请公布号
TWI477916
申请公布日期
2015.03.21
申请号
TW098127611
申请日期
2009.08.17
申请人
日产化学工业股份有限公司
发明人
柴山亘;中岛诚;菅野裕太
分类号
G03F7/11;C08L83/08;G03F7/075;H01L21/027
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种膜形成组成物,其特征为含有具有鎓基之矽烷化合物与不具有鎓基之矽烷化合物,且该具有鎓基之矽烷化合物系分子内具有鎓基之水解性有机矽烷、其水解物,或其水解缩合物者;该具有鎓基之矽烷化合物系占该全体矽烷化合物中以0.01~0.95莫耳%之比率存在者。
地址
日本
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