发明名称 一种用于半导体硅片快速退火的装置
摘要 本发明公开了一种用于半导体硅片快速退火的装置,包括承接热处理炉出来半导体硅片的支撑支架,与支撑支架固定相连的移动滑板,与移动滑板配合的滑动导轨,该装置还包括一设于滑动导轨上的接触式开关及受该接触式开关控制开关的冷却风扇,当半导体硅片随移动滑板移动到处于冷却风扇风流中部位置时,接触式开关控制冷却风扇开启。本发明提供的半导体硅片快速退火装置能够有效实现快速退火,能够用于实际半导体硅片的加工和制造过程中的热处理退火环节,具有结构简单,操作简便,效率较高的优点。
申请公布号 CN102912448B 申请公布日期 2015.03.18
申请号 CN201210337124.X 申请日期 2012.09.13
申请人 浙江长兴众成电子有限公司 发明人 孙新利;万喜增;蒋伟达;郑六奎
分类号 C30B33/02(2006.01)I 主分类号 C30B33/02(2006.01)I
代理机构 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 代理人 胡根良
主权项 一种用于半导体硅片快速退火的装置,其特征在于:包括承接热处理炉(1)出来半导体硅片(2)的支撑支架(4),与支撑支架(4)固定相连的移动滑板(5),与移动滑板(5)配合的滑动导轨(6),该装置还包括一设于滑动导轨上的接触式开关(8)及受该接触式开关控制开关的冷却风扇(7),当半导体硅片随移动滑板移动到处于冷却风扇风流中部位置时,接触式开关控制冷却风扇开启。
地址 313100 浙江省湖州市长兴县县前东街1299号