发明名称 |
薄膜晶体管、阵列基板及其制作方法、显示装置 |
摘要 |
本发明属于显示技术领域,特别涉及一种薄膜晶体管、阵列基板及其制作方法、显示装置。本发明薄膜晶体管包括基板,以及在基板上依次形成的栅极层、栅绝缘层、有源层、电极金属层和钝化层;电极金属层包括源电极和漏电极,源电极和漏电极互相隔离,之间为沟道区域;所述栅极层和基板之间有第一透明导电层;所述有源层和电极金属层之间有第二透明导电层。本发明中的薄膜晶体管在基板和栅极金属层之间、有源层和电极金属层之间增加了透明导电层,增强了栅金属层与基板之间的附着力,阻止了电极金属向有源层的扩散,提高了产品性能。 |
申请公布号 |
CN102769040B |
申请公布日期 |
2015.03.04 |
申请号 |
CN201210260931.6 |
申请日期 |
2012.07.25 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
张学辉;刘翔;薛建设 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
韩国胜 |
主权项 |
薄膜晶体管,包括形成在基板上的栅极、栅绝缘层、有源层、电极金属层和钝化层;电极金属层包括源电极和漏电极,源电极和漏电极互相隔离,之间为沟道区域;其特征在于,所述栅极和基板之间形成有第一透明导电层;所述有源层和电极金属层之间形成有第二透明导电层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |