发明名称 磁控溅射倾斜沉积镀膜装置
摘要 一种用于磁控溅射镀膜机内镀制“雕塑”薄膜的磁控溅射倾斜沉积镀膜装置,包括安装架、刻度盘和基片安装夹具,还有步进电机、步进电机驱动器、计算机。该安装架安装在磁控溅射镀膜机的基底装置上;该刻度盘和基片安装夹具共同安装在安装架上;基片的倾斜角度通过基片安装夹具上的螺钉和刻度盘上的细分刻度进行精确控制,自由控制基片的倾斜角度;该步进电机通过旋转夹具控制基片的公转;该步进电机驱动器通过电脑和步进电机相连,通过计算机的已有程序来控制公转的频率。本发明主动引入基片的倾斜角度,主动调节角度变化,一次镀膜实现多片倾斜角度一致或者不一致的“雕塑”薄膜。本发明具有简单、实用、灵活、变化自由多样化、可操作性强等特点。
申请公布号 CN104109841A 申请公布日期 2014.10.22
申请号 CN201410352591.9 申请日期 2014.07.23
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 齐红基;王斌
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 张泽纯
主权项 一种用于磁控溅射镀膜机内镀制“雕塑”薄膜的磁控溅射倾斜沉积镀膜装置,其特征在于安装架、刻度盘(12)和基片安装夹具,所述的安装架具有半圆的插头(10)和手柄(15),所述的插头(10)通过和磁控溅射镀膜机的基底装置(6)上面的圆形凹槽相对应,以将倾斜沉积镀膜装置安装在所述的基底装置(6)上,所述的插头(10)具有三对锥孔(16)、(17)、(18),所述的手柄(15)一端的上面具有一对第一螺孔(22),所述的手柄(15)的两侧各具有两组第二螺孔(23)、第三螺孔(24)和第二螺孔(23),通过十字沉头螺钉(19)穿过插头(10)上具有第一锥孔(18)和手柄(15)上部的第一螺孔(22)将所述的抽头(10)固定在所述的手柄(15)上,构成安装架;所述的刻度盘(12)上有位于圆心的圆孔(20),和位于过该圆心的直径上并与所述的圆孔(20)对称的一对锥孔(21),用两个十字沉头螺钉(26)穿过所述的刻度盘(12)上的锥孔(21)和安装架手柄(15)侧面的第二螺孔(23),将所述的刻度盘(12)安装在所述的手柄(15)上,所述的刻度盘(12)的圆孔(20)与所述的安装架手柄(15)侧面的第三螺孔(24)相对应,所述的刻度盘(12)上具有刻度;所述的基片安装夹具对应有三种规格:第一基片安装夹具(11)、第二基片安装夹具(13)和第三基片安装夹具(14),第一基片安装夹具(11)、第二基片安装夹具(13)和第三基片安装夹具(14)具有不同的圆形凹槽,供不同规格的基片的安装,所述的第一基片安装夹具(11)、第二基片安装夹具(13)和第三基片安装夹具(14)的一边都有内六角圆柱头螺钉(25),通过所述的刻度盘上的圆孔(20)和安装架手柄(15)侧面的螺孔(24),将所述的基片安装夹具安装在安装架手柄(15)上,所述的基片安装夹具的角度由基片安装夹具与所述的刻度盘(12)上的刻度确定。
地址 201800 上海市嘉定区上海800-211邮政信箱