发明名称 制备超细陶瓷相弥散强化铜涂层的喷涂工艺
摘要 本发明涉及一种制备超细陶瓷相弥散强化铜涂层的喷涂工艺,在基体表面喷涂合金粉末,在喷涂过程中控制喷涂火焰的温度为1500-2200K,喷涂火焰的速度为1000-1500m/s;所述的合金粉末为纯铜粉、或为铝粉质量百分比小于5%的铜铝复合粉、或为铬粉质量百分比小于5%的铜铬复合粉;合金粉末的粒径为5-45μm,合金粉末的形态为近球形。与现有技术相比,本发明制备的超细陶瓷相弥散强化铜涂层用在铜铝复合导电排上,其工作部分导电率不小于80%IACS、硬度超过传统紫铜排30%以上、连接性高于传统紫铜排,可以作为低压盘柜中紫铜排的理想替代材料。
申请公布号 CN103981478A 申请公布日期 2014.08.13
申请号 CN201410172425.0 申请日期 2014.04.25
申请人 同济大学 发明人 严彪;严鹏飞
分类号 C23C4/12(2006.01)I;C23C4/08(2006.01)I 主分类号 C23C4/12(2006.01)I
代理机构 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人 叶敏华
主权项 一种制备超细陶瓷相弥散强化铜涂层的喷涂工艺,其特征在于,在基体表面喷涂合金粉末,在喷涂过程中控制喷涂火焰的温度为1500‑2200K,喷涂火焰的速度为1000‑1500m/s;所述的合金粉末为纯铜粉、或为铝粉质量百分比小于5%的铜铝复合粉、或为铬粉质量百分比小于5%的铜铬复合粉;所述的合金粉末的粒径为5‑45μm,所述的合金粉末的形态为近球形。
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