光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及图案转印方法

摘要

本发明提供光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及图案转印方法，在进行接近式曝光时提高图案的转印精度。一种光掩模，其具有：透明基板；以及将形成于透明基板的表面的遮光膜构图为预定的转印用图案而成的转印用图案，其中，利用描绘机的工作台从下方支撑透明基板的第2主表面，同时形成转印用图案，对于没有用支撑部件从下方支撑透明基板时的透明基板的第2主表面的平坦度，在设任意两点的高低差为ΔZb(μm)时，ΔZb≤(1/T)×3.0。

主权项

一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，且该光掩模用基板的厚度为T，该光掩模用基板的特征在于，在处于所述第1主表面的背面的第2主表面上，相隔10mm的任意两点的高低差为ΔZb时，所述第2主表面的与所述第1主表面的图案形成区域对应的区域内的ΔZb满足ΔZb≦(1/T)×3.0，其中，所述T的单位是mm，所述ΔZb的单位是μm。