发明名称 |
用于将材料沉积到承载体上的制备装置 |
摘要 |
本发明公开了一种垫圈,所述垫圈用于将材料沉积到承载体上的制备装置中。所述制备装置的壳体和基板限定了反应室。所述垫圈设置在所述壳体与所述基板之间以防止沉积组合物逸出所述反应室,所述沉积组合物包含待沉积的所述材料或其前体。所述垫圈包含柔性石墨材料,用于防止所述垫圈污染所述反应室内的所述材料。 |
申请公布号 |
CN103764560A |
申请公布日期 |
2014.04.30 |
申请号 |
CN201180073221.6 |
申请日期 |
2011.07.20 |
申请人 |
赫姆洛克半导体公司 |
发明人 |
迈克尔·L·安德森;斯蒂芬·特朗布利 |
分类号 |
C01B33/035(2006.01)I;F16J15/10(2006.01)I |
主分类号 |
C01B33/035(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
张华卿;郑霞 |
主权项 |
一种用于将材料沉积到承载体上的制备装置,所述制备装置包括:基板;壳体,其具有用于与所述基板连接以限定反应室的凸缘;由所述壳体限定的入口,其用于引入沉积组合物,所述沉积组合物包含进入所述反应室的所述材料或其前体;以及至少一个垫圈,其设置在所述基板与所述壳体之间用于所述壳体和所述基板之间的密封,从而防止所述沉积组合物逸出所述反应室;其中所述垫圈包含柔性石墨材料,用于防止所述垫圈污染所述反应室内的所述材料。 |
地址 |
美国密歇根州 |