一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统

摘要

本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。

主权项

一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出TE光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TE光进行透射，对TM光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。