| 摘要 |
本发明系有关于一种即使为具有复杂之立体形状之模具，亦可易作成密合性佳之光罩，且可反覆进行曝光之具再现性高之定位精确度的曝光装置。一种以曝光将预定图形转印至成膜于热压成形用模具表面之抗蚀膜的真空加压成形曝光装置，其特征在于，包含有气密容器、台座、加热机构、吸引部、吸引机构、曝光机构、及气体供给部，该气密容器系用以将于表面成膜有抗蚀膜之成形用模具气密地收容者；该台座系用以载置前述成形用模具者；该加热机构系用以将形成有预定图形之片加热，而使其软化者；该吸引部系于将已软化之片覆盖在模具之际，使片下面吸附至台座者；该吸引机构系连接于前述吸引部者；该曝光机构系在使已软化之片吸附至前述成形用模具之状态下，将该片之前述图形曝光于抗蚀膜者；该气体供给部系用以供给将前述气密容器内加压之气体者。 |
