发明名称 |
Gate-Dielektrikum aus Nitrid für Graphen-Mosfet |
摘要 |
Eine Halbleiterstruktur, die ein Substrat; eine Graphenschicht auf dem Substrat; eine Source-Elektrode und eine Drain-Elektrode auf der Graphenschicht beinhaltet, wobei sich die Source-Elektrode und die Drain-Elektrode in einem festgelegten Abstand voneinander entfernt befinden; sowie eine Nitridschicht auf der Graphenschicht zwischen der Source-Elektrode und der Drain-Elektrode; und eine Gate-Elektrode auf der Nitridschicht, wobei die Nitridschicht ein Gate-Dielektrikum für die Gate-Elektrode ist.
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申请公布号 |
DE112012000689(T5) |
申请公布日期 |
2013.10.31 |
申请号 |
DE20121100689T |
申请日期 |
2012.03.08 |
申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
NEUMAYER, DEBORAH A.;AVOURIS, PHAEDON;ZHU, WENJUAN |
分类号 |
H01L29/68;H01L21/04 |
主分类号 |
H01L29/68 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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