发明名称 Gate-Dielektrikum aus Nitrid für Graphen-Mosfet
摘要 Eine Halbleiterstruktur, die ein Substrat; eine Graphenschicht auf dem Substrat; eine Source-Elektrode und eine Drain-Elektrode auf der Graphenschicht beinhaltet, wobei sich die Source-Elektrode und die Drain-Elektrode in einem festgelegten Abstand voneinander entfernt befinden; sowie eine Nitridschicht auf der Graphenschicht zwischen der Source-Elektrode und der Drain-Elektrode; und eine Gate-Elektrode auf der Nitridschicht, wobei die Nitridschicht ein Gate-Dielektrikum für die Gate-Elektrode ist.
申请公布号 DE112012000689(T5) 申请公布日期 2013.10.31
申请号 DE20121100689T 申请日期 2012.03.08
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 NEUMAYER, DEBORAH A.;AVOURIS, PHAEDON;ZHU, WENJUAN
分类号 H01L29/68;H01L21/04 主分类号 H01L29/68
代理机构 代理人
主权项
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