发明名称 |
增强光刻工艺能力的装置及利用该装置进行的光刻工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种增强光刻工艺能力的装置及利用该装置进行的光刻工艺,根据光刻工艺需求,调整多灰度圆环形照明光圈的相关参数,从而使得入射光线经过该多灰度圆环形照明光圈后,以符合工艺需求的曝光量照射至硅片表面,进而使得硅片表面的光刻胶形成最终图形,进一步的完成光刻工艺;本发明提供的增强光刻工艺能力的装置及利用该装置进行的光刻工艺,能够有效提高各种不同尺寸的图形的综合分辨率和工艺窗口,平衡了各种不同尺寸图形的线宽尺寸,且避免了多次曝光工艺的成本增加和产出量降低的问题,进而提高了生产效率和降低了制造成本,且提高了器件的良率。 |
申请公布号 |
CN103336410A |
申请公布日期 |
2013.10.02 |
申请号 |
CN201310264730.8 |
申请日期 |
2013.06.27 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
毛智彪 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海申新律师事务所 31272 |
代理人 |
竺路玲 |
主权项 |
一种增强光刻工艺能力的装置,应用于硅片的光刻工艺中,所述系统包括聚光透镜,其特征在于,所述系统还包括一多灰度圆环形照明光圈;所述多灰度圆环形照明光圈设置于所述聚光透镜的瞳孔平面;所述多灰度圆环形照明光圈上还设置有四级照明组合;其中,所述四级照明组合包括四个透光孔。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |