发明名称 |
二氧化钛制备中控制粒度和二氧化硅覆盖率的方法 |
摘要 |
本公开涉及制备基本上不含锐钛矿的二氧化钛颜料的气相方法,所述方法包括使气态二氧化钛前体与含氧气体在反应器中反应;以及在所述气态二氧化钛前体和所述含氧气体加入处的下游位点处且在约1200℃至约1600℃的工艺温度下,将液态卤化硅与液态二氧化钛前体的混合物引入到所述反应器中以制备基本上包封于二氧化硅中的二氧化钛颗粒。 |
申请公布号 |
CN103298745A |
申请公布日期 |
2013.09.11 |
申请号 |
CN201280004950.0 |
申请日期 |
2012.01.06 |
申请人 |
纳幕尔杜邦公司 |
发明人 |
C.D.穆斯克;R.A.约翰斯;J.J.扎赫尔 |
分类号 |
C01G23/07(2006.01)I;C09C1/36(2006.01)I |
主分类号 |
C01G23/07(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
邹雪梅;李炳爱 |
主权项 |
制备基本上不含锐钛矿的二氧化钛颜料的气相方法,包括:(a)使气态二氧化钛前体与含氧气体在反应器中反应;以及(b)在所述气态二氧化钛前体和所述含氧气体加入处的下游位点处且在约1200℃至约1600℃的工艺温度下,将液态卤化硅与液态二氧化钛前体的混合物引入到所述反应器中以制备基本上包封于二氧化硅中的二氧化钛颗粒。 |
地址 |
美国特拉华州威尔明顿 |