发明名称 薄膜基板的液晶注入方法以及薄膜基板的液晶注入装置
摘要 一种将液晶材料(2)注入薄膜基板(1)的薄膜基板(1)的液晶注入方法,其包括:接触工序,在该接触工序中,通过使薄膜基板(1)与在用于积存液晶材料(2)的液晶积存部(11)设置的接触部(13)接触,从而在薄膜基板(1)的液晶注入口(1a)和液晶积存部(11)的底面之间形成间隙(G);和注入工序,在该注入工序中,在薄膜基板(1)与接触部(13)接触的状态下,从上述间隙(G)向液晶注入口(1a)注入液晶材料(2)。
申请公布号 CN103221883A 申请公布日期 2013.07.24
申请号 CN201080070302.6 申请日期 2010.12.24
申请人 富士通先端科技株式会社 发明人 大桥和也;浜田英伸
分类号 G02F1/1341(2006.01)I 主分类号 G02F1/1341(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 党晓林;王小东
主权项 一种薄膜基板的液晶注入方法,其用于将液晶材料注入薄膜基板,其特征在于,所述薄膜基板的液晶注入方法包括:接触工序,在该接触工序中,通过使所述薄膜基板与在用于积存所述液晶材料的液晶积存部设置的接触部接触,从而在所述薄膜基板的液晶注入口和所述液晶积存部的底面之间形成间隙;和注入工序,在该注入工序中,在所述薄膜基板与所述接触部接触的状态下,从所述间隙向所述液晶注入口注入所述液晶材料。
地址 日本东京都