阴离子-非离子复合型有机蒙脱石及其制备方法

摘要

本发明公开了非离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石及其制备方法，该方法包括以下步骤：提纯蒙脱石；对蒙脱石进行水化处理：将提纯后的蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；制备非离子-阴离子复合插层型有机蒙脱石材料：使用有机非离子型表面活性剂和阴离子型表面活性剂，在超声分散作用和机械搅拌作用下，协同对蒙脱石进行插层。本发明的有机蒙脱石层间距高，热稳定性高，在有机相中分散均匀，剥离程度高，性能优异，可作为一种性能优异的填料应用到制备高分子纳米复合材料领域。

主权项

非离子‑阴离子复合插层型有机蒙脱石的制备方法，该方法包括以下步骤：A．提纯蒙脱石：将钠基蒙脱石进行提纯；B．对蒙脱石进行水化处理：将提纯后的蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；C．制备非离子‑阴离子复合插层型有机蒙脱石材料：将已充分水化的蒙脱石水化液记为A液，将有机非离子型表面活性剂与有机阴离子型表面活性剂溶解于一定量水中超声分散并机械搅拌一定时间得B液，然后将B液加入到A液中，后续再机械搅拌，恒温静置，分离，干燥，得到非离子‑阴离子复合插层型有机蒙脱石材料；其中，在步骤C中，所述非离子型表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚、十二烷基苯磺酸、十二烷基磺酸、聚乙二醇和聚乙烯醇中的一种或多种，所述阴离子型表面活性剂为十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、油酸钠和硬脂酸钠中的一种或多种。