负型光阻材料及使用其形成图型之方法

摘要

本发明系提供一种具有优于以往之羟基苯乙烯系、酚醛系之负型光阻材料的高解像度，曝光后之图型形状良好，显示更优异的耐蚀刻性的负型光阻材料，特别是化学增幅负型光阻材料及使用该材料的图型形成方法。;本发明之负型光阻材料，其特征系至少含有：具有下述一般式(1)表示之羟基乙烯基萘之重复单位的高分子化合物。;【化47】;(1)