发明名称 一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法
摘要 一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法,该光栅包括基底、金属Ag膜、多层介质膜、剩余膜层以及表面光栅结构,每层介质反射膜由SiO2、HfO2和TiO2介质膜组成。该方法首先定义光栅衍射效率光谱特性数值评价函数,选定金属介质和多层介质膜材料的折射率以及参与优化的光栅参数,按照严格耦合波理论建立宽光谱金属介质膜光栅TE波衍射效率数值分析模型。通过多参数优化,得到光栅的周期为1480线/mm,槽深为290纳米,剩余膜层的厚度为10nm,占空比为0.28,入射角度为60°。本发明宽带金属介质膜光栅在波长为1053纳米的TE偏振光入射时,在反射衍射-1级方向超过190nm宽光谱带宽内衍射效率高于97%。
申请公布号 CN102314040B 申请公布日期 2013.04.17
申请号 CN201110259825.1 申请日期 2011.09.05
申请人 青岛大学 发明人 孔伟金;王淑华;云茂金;王书浩;卢朝靖;陈沙鸥
分类号 G02B5/18(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I 主分类号 G02B5/18(2006.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 邸更岩
主权项 一种宽光谱金属介质膜光栅,其特征在于:该光栅从下至上依次由基底(7)、金属Ag膜(6)、SiO2介质膜(5)、HfO2介质膜(4)、TiO2介质膜(3)、剩余膜层(2)以及表面光栅结构(1);所述的剩余膜层在表面光栅结构和金属介质膜之间,是顶层刻蚀出表面光栅结构后的剩余膜层;SiO2介质膜、HfO2介质膜和TiO2介质膜依次组成多层介质膜;金属Ag膜和多层介质膜组成高反射膜(8);光栅的周期为1480线/mm,光栅槽深为290纳米,剩余膜层的厚度为10nm,占空比为0.28,入射角度为60°;所述金属介质膜光栅‑1级衍射效率优于97%的有效光谱范围达到190nm。
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