发明名称 |
一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法 |
摘要 |
一种宽光谱金属介质膜光栅及其优化方法,该光栅包括基底、金属Ag膜、多层介质膜、剩余膜层以及表面光栅结构,每层介质反射膜由SiO2、HfO2和TiO2介质膜组成。该方法首先定义光栅衍射效率光谱特性数值评价函数,选定金属介质和多层介质膜材料的折射率以及参与优化的光栅参数,按照严格耦合波理论建立宽光谱金属介质膜光栅TE波衍射效率数值分析模型。通过多参数优化,得到光栅的周期为1480线/mm,槽深为290纳米,剩余膜层的厚度为10nm,占空比为0.28,入射角度为60°。本发明宽带金属介质膜光栅在波长为1053纳米的TE偏振光入射时,在反射衍射-1级方向超过190nm宽光谱带宽内衍射效率高于97%。 |
申请公布号 |
CN102314040B |
申请公布日期 |
2013.04.17 |
申请号 |
CN201110259825.1 |
申请日期 |
2011.09.05 |
申请人 |
青岛大学 |
发明人 |
孔伟金;王淑华;云茂金;王书浩;卢朝靖;陈沙鸥 |
分类号 |
G02B5/18(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I;B32B15/04(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 |
代理人 |
邸更岩 |
主权项 |
一种宽光谱金属介质膜光栅,其特征在于:该光栅从下至上依次由基底(7)、金属Ag膜(6)、SiO2介质膜(5)、HfO2介质膜(4)、TiO2介质膜(3)、剩余膜层(2)以及表面光栅结构(1);所述的剩余膜层在表面光栅结构和金属介质膜之间,是顶层刻蚀出表面光栅结构后的剩余膜层;SiO2介质膜、HfO2介质膜和TiO2介质膜依次组成多层介质膜;金属Ag膜和多层介质膜组成高反射膜(8);光栅的周期为1480线/mm,光栅槽深为290纳米,剩余膜层的厚度为10nm,占空比为0.28,入射角度为60°;所述金属介质膜光栅‑1级衍射效率优于97%的有效光谱范围达到190nm。 |
地址 |
266071 山东省青岛市崂山区中国香港东路7号 |