电浆处理设备

摘要

一种电浆处理设备，其包含腔室、下电极、上电极以及基底感测器。所述腔室经配置以提供反应空间。所述下电极设置在所述腔室中的下部区域处，以供在下电极上安装基底。所述上电极设置在所述腔室中的上部区域处，并与所述下电极相对。所述基底感测器提供于所述腔室上以感测所述基底。在本文中，所述上电极包含电极板和附接在所述电极板底部上的绝缘板，且至少一个导孔形成于所述上电极中，以引导从所述基底感测器输出的光朝向所述基底。