发明名称 离子溅射仪溅射靶
摘要 本实用新型公开的离子溅射仪溅射靶,包括上盖板,所述上盖板上侧设有接线柱,其中,所述上盖板下侧设置靶头,所述靶头为圆形,所述靶头直径为50mm~60mm,所述靶头外表面设有溅射层,所述溅射层涂有溅射材料;所述靶头外侧设有压盖;所述上盖板和靶头通过螺栓固定连接。本实用新型提供的离子溅射仪溅射靶,安装简单,使用方便,减少了靶头的面积,仅需靶头正面涂覆溅射材料,节约了材料,降低了后期使用成本。
申请公布号 CN202499900U 申请公布日期 2012.10.24
申请号 CN201220093483.0 申请日期 2012.03.14
申请人 南京南大仪器厂 发明人 袁玫;黄耀生
分类号 C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种离子溅射仪溅射靶,包括上盖板(4),所述上盖板(4)上侧设有接线柱(5),其特征在于:所述上盖板(4)下侧设置靶头(1),所述靶头(1)为圆形,所述靶头(1)直径为50mm~60mm,所述靶头(1)外表面设有溅射层(2),所述溅射层(2)涂有溅射材料。
地址 210038 江苏省南京市南京经济技术开发区3B01-2地块