漂洗处理方法及显影处理装置

摘要

本发明的对将曝光图案显影处理后的基板进行漂洗处理的漂洗处理方法包括：预先对应于基板的表面状态设定漂洗处理条件的工序；测定基板的表面状态的工序；根据测得的基板的表面状态选择对应的漂洗处理条件的工序；按照上述选择的条件进行漂洗处理的工序。

主权项

一种漂洗处理方法，对将曝光图案进行了显影后的基板进行漂洗，其特征在于，上述漂洗处理方法包括准备阶段和实际处理阶段，上述准备阶段具备：以显影后的各个基板的表面上呈现的不同的多个表面状态测定漂洗液所形成的接触角的工序；基于上述以多个表面状态测定漂洗液所形成的接触角的工序中所得到的结果，将上述多个表面状态分为以不同的多个范围分别限定了上述接触角的值的多个组的工序；以及相对于上述多个组，分别分配适于将显影缺陷控制在允许范围内的多个漂洗处理，生成表示上述接触角的值不同的多个范围和上述多个漂洗处理的关系的参照数据的工序；上述实际处理阶段具备：在显影处理后的被处理基板的表面上测定上述漂洗液所形成的接触角，获得测定值的工序；将上述测定值与上述参照数据进行对照，决定适于相对于上述被处理基板进行的适当的漂洗处理的工序，在此，从上述多个组中选择上述测定值所属的特定组，将在上述多个漂洗处理内分配给上述特定组的漂洗处理作为上述适当的漂洗处理；以及使用上述适当的漂洗处理，对上述被处理基板进行漂洗的工序。