发明名称 |
研磨垫清洗装置及研磨垫修整器 |
摘要 |
本发明涉及研磨垫清洗装置及研磨垫修整器,该研磨垫清洗装置包括气体输送管、去离子水输送管、文丘里管和控制器;所述气体输送管和去离子水输送管分别与所述文丘里管连接;所述控制器与所述气体输送管和去离子水输送管连接;经所述气体输送管输送的高压气体和经所述去离子水输送管输送的去离子水在所述文丘里管内混合后,从所述文丘里管喷出,所述控制器用于控制所述气体输送管和去离子水输送管的开闭。本发明涉及研磨垫清洗装置及研磨垫修整器能产生较强冲击力去除残留微粒子,清洗效果好。 |
申请公布号 |
CN102554782A |
申请公布日期 |
2012.07.11 |
申请号 |
CN201010599914.6 |
申请日期 |
2010.12.20 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
高思玮 |
分类号 |
B24B53/007(2006.01)I |
主分类号 |
B24B53/007(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种研磨垫清洗装置,其特征在于,包括气体输送管、去离子水输送管、文丘里管和控制器;所述气体输送管和去离子水输送管分别与所述文丘里管连接;所述控制器与所述气体输送管和去离子水输送管连接;经所述气体输送管输送的高压气体和经所述去离子水输送管输送的去离子水在所述文丘里管内混合后,从所述文丘里管喷出,所述控制器用于控制所述气体输送管和去离子水输送管的开闭。 |
地址 |
201203 上海市张江路18号 |