| 发明名称 | 芯片的清洗方法 | ||
| 摘要 | 一种芯片的清洗方法，包括：提供待清洗的芯片，所述芯片表面具有待去除的有机物和微小颗粒物；将所述待清洗的芯片置放于有机溶剂中进行有机溶剂清洗；将经过溶剂清洗后的芯片进行灰化处理；将灰化后的芯片采用去离子水进行去离子水清洗。本发明先采用溶剂清洗，然后进行灰化处理，可以大部分去除芯片表面的有机物及微小颗粒物，提高了焊盘的表面质量和焊接质量。 | ||
| 申请公布号 | CN102044407B | 申请公布日期 | 2012.04.18 |
| 申请号 | CN200910197445.2 | 申请日期 | 2009.10.20 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 曹韵 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 李丽 |
| 主权项 | 一种芯片的清洗方法，包括：提供待清洗的芯片，所述芯片表面具有待去除的有机物和微小颗粒物；将所述待清洗的芯片置放于有机溶剂中进行有机溶剂清洗，以去除微小颗粒物，所述有机溶剂清洗过程中，加载有超声波；将经过溶剂清洗后的芯片进行灰化处理，以去除有机物；将灰化后的芯片采用去离子水进行去离子水清洗。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||