| 发明名称 | 转印膜结构 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。本发明在饰纹层和黏着膜层之间增设第二硬化膜层，第二硬化膜层将可阻挡黏着膜层的胶水渗入饰纹层，以防止油墨图纹遭受破坏，并可同时强化膜层结构强度，从而达到提升转印膜制程合格率的功效。 | ||
| 申请公布号 | CN102059871A | 申请公布日期 | 2011.05.18 |
| 申请号 | CN201010553124.4 | 申请日期 | 2010.11.22 |
| 申请人 | 琨诘电子（昆山）有限公司 | 发明人 | 曾水泉 |
| 分类号 | B41M5/00(2006.01)I;B32B27/06(2006.01)I;B44C5/04(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 董建林;王寿刚 |
| 主权项 | 转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。 | ||
| 地址 | 215321 江苏省苏州市昆山市张浦镇滨江北路358号 | ||