| 发明名称 | 用于热调节光学元件的方法和系统 | ||
| 摘要 | 提供一种用于热调节光学元件的方法，所述方法包括：用辐射照射光学元件的步骤；不用辐射照射所述光学元件的步骤；在所述光学元件和保持在调节流体储存器内的调节流体之间实现热流动；和提供所述调节流体的流体流动，以提供热调节后的流体至所述储存器。所述流体在所述光学元件的照射期间的流量低于所述光学元件不被照射时所述流体的流量。 | ||
| 申请公布号 | CN102057332A | 申请公布日期 | 2011.05.11 |
| 申请号 | CN200980121967.2 | 申请日期 | 2009.05.20 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·施密特兹;T·范埃姆派尔;M·姆伊特詹斯;程伦;F·詹森;W·范海尔登;R·沃思鲁伊斯;P·斯加里曼;A·莱克斯蒙德;E·尼埃乌库普;B·伯特斯;M·莱蒙;R·范德格拉夫;M·德克鲁恩;H·维尔苏伊斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种用于热调节光学元件的方法，所述方法包括步骤：用辐射照射光学元件；不用辐射照射所述光学元件；在所述光学元件和保持在调节流体储存器内的调节流体之间实现热流动；和提供所述调节流体的流体流动，以将热调节后的流体供给至所述储存器，其中所述流体在所述光学元件的照射期间的流量低于所述光学元件不被照射时所述流体的流量，其中所述流体流量能够在照射期间基本上为零。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||