发明名称 |
一种高温材料法向光谱发射率测量系统 |
摘要 |
本发明公开了一种高温材料法向光谱发射率测量系统,包括:真空加热单元,其上部设置测试样品,对测试样品下表面进行辐射加热;水冷套筒单元,套设在测试样品上部,将测试样品上表面置于恒温冷环境中;光纤传感器测量单元,设置在测试样品上方,测量测试样品上表面的法向光谱辐射强度;数据采集与分析单元,与光纤传感器测量单元连接,依据所测得的法向光谱辐射强度,通过多光谱反演算法,计算其法向光谱发射率。本发明实现了0.4μm~1.7μm光谱范围、600℃~1500℃温度范围的材料法向光谱发射率测量,测量无需在线辐射定标,技术实现简单、准确可靠,克服了现有光谱发射率装置价格昂贵、构造复杂、技术实施难度较大等应用的局限性。 |
申请公布号 |
CN102042993A |
申请公布日期 |
2011.05.04 |
申请号 |
CN201010562419.8 |
申请日期 |
2010.11.23 |
申请人 |
清华大学;中国航天科工集团第三总体设计部 |
发明人 |
符泰然;谈鹏;曹阳;赵桓 |
分类号 |
G01N25/00(2006.01)I;G01J3/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N25/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种高温材料法向光谱发射率测量系统,其特征在于,包括:真空加热单元,其上部设置测试样品(7),对测试样品(7)下表面进行辐射加热;水冷套筒单元,套设在所述测试样品(7)上部,将测试样品(7)上表面置于恒温冷环境中;光纤传感器测量单元,设置在所述测试样品(7)上方,测量测试样品(7)上表面的法向光谱辐射强度;数据采集与分析单元,与所述光纤传感器测量单元连接,依据所测得的所述测试样品(7)上表面的法向光谱辐射强度,通过多光谱反演算法,计算其法向光谱发射率。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园北京100084-82信箱 |