发明名称 ATOMIC LAYER DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号 KR101028407(B1) 申请公布日期 2011.04.13
申请号 KR20080135371 申请日期 2008.12.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/205;C23C16/455 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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