发明名称 基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法
摘要 本发明涉及一种基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法。本发明在分析目前矢量图水印算法在抗攻击方面的不足的基础上,依据典型相关分析的特点,将其引入到数字水印技术中。包含两个实施步骤:在水印的嵌入阶段采用了在通过典型相关分得到的典型相关变量上利用DFT域算法嵌入水印的方案;在检测阶段,依据典型相关分析典型相关变量的仿射不变特性和统计特性对水印进行相关检测,最终判定是否含有水印。本发明的方法能够抵抗各种几何攻击、加燥滤波、改变起始点和它们的综合攻击。
申请公布号 CN101447070B 申请公布日期 2011.03.30
申请号 CN200810203997.5 申请日期 2008.12.04
申请人 上海大学 发明人 陈欢;孙广玲
分类号 G06T1/00(2006.01)I 主分类号 G06T1/00(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 何文欣
主权项 一种基于典型相关分析的2维矢量图的数字水印保护方法,其特征在于实施步骤为:A.实施数字水印的嵌入流程;B.实施数字水印的检测流程;所述的步骤A的实施数字水印嵌入流程的步骤为:a.先将原始矢量图的轮廓图顶点坐标序列P质心归零,然后按照下标的奇偶性分成两组Po和Pe,即奇数组和偶数组,对于顶点序列长度为奇数的,需要使用环形奇偶分组法;b.将Po和Pe进行典型相关分析,得到Po和Pe各自对应的典型相关变量U和V,然后将U和V取正后按Po和Pe原来的奇偶顺序合为一组序列VP,对于顶点序列长度为奇数的,只取出所需部分;c.运用DFT域水印算法对VP嵌入水印,含水印的VP用WVP表示;d.WVP先奇偶分组并还原回原来的正负性,然后进行典型相关分析的逆运算,获得含水印的奇偶序列WPo和WPe,顶点序列长度为奇数,需先补齐数据再进行典型相关分析的逆运算;e.含水印的WPo和WPe按奇偶合为单一序列,然后平移回原来的质心,即恢复为含水印的矢量多边形序列WP,序列长度为奇数,需要取出需要的数据进行合并;所述的步骤B的实施数字水印检测流程的步骤为:a.待检测矢量图轮廓顶点序列Q质心归一化后,按奇偶分为奇偶两组Qo和Qe,顶点序列长度为奇数时的处理方式同实施数字水印嵌入流程的步骤a相同;b.对Qo和Qe进行典型相关分析,得到典型相关变量M和N,将M,N数据取正后合为单一序列VQ,顶点序列长度为奇数时的处理方式同实施数字水印嵌入流程的步骤b相同;c.依据DFT域水印算法计算VQ的傅立叶描述子Z;d.计算|Z|与嵌入水印的相关值C,通过比较C与阈值T的大小,判定待检测矢量图的轮廓是否含有水印;为了判断的准确性还需要求取下面的几个相关值:i.轮廓顶点序列长度为偶数时,将起始点移动奇数个后的相关值;ii.轮廓顶点序列长度为奇数时,将得到的步骤b中的Qo和Qe互换后的检测值。
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