高质量单晶厚膜材料的异质外延生长方法

摘要

本发明公开一种高质量单晶厚膜材料的异质外延生长方法。该方法包括如下步骤：对衬底进行预处理；第一阶段，实现应力有效释放的渐变调制——工艺参数从高质量生长条件渐变到应力释放生长条件；第二阶段，实现外延材料质量提高的渐变调制——工艺参数从应力释放条件渐变到高质量生长条件；以周期调制的方式连续重复第一阶段和第二阶段；生长材料达到预定厚度时停止生长；以及将材料的生长效果作为反馈，调整质量调制幅度参数，确定下次材料的生长条件。本发明解决了材料异质外延的两个主要问题，兼顾了材料质量的提高和应力的有效释放，并引入了控制参数质量调制幅度，实现对质量和应力的有效控制，能够良好地实现高质量单晶厚膜材料的异质外延。

主权项

一种高质量单晶厚膜材料的异质外延方法，其特征在于，包括以下步骤：i.对衬底材料进行生长预处理；ii.外延生长第一阶段，实现应力有效释放的渐变调制——工艺参数从高质量生长条件逐渐变化到应力释放生长条件；iii.外延生长第二阶段，实现外延材料质量提高的渐变调制——工艺参数从应力释放生长条件逐渐回到高质量生长条件；iv.以周期调制的方式重复第一阶段和第二阶段，逐渐生长出厚膜；v.生长的材料达到预定厚度后停止生长；以及vi.将厚膜材料的生长效果作为反馈，调整质量调制幅度参数，确定下次材料的生长条件。