使用两件式盖子保护模版的系统和方法

摘要

一种使用两件式盖子保护模版的系统和方法，用于保护掩模不被空载的颗粒污染。它们包括提供一个固定在两件式盖子中的模版，该两件式盖子包括用于保护模版不受污染的可除去保护部分。该盖子可以保持在用于将盖子从大气部分向真空部分传送通过光刻系统的吊舱或盒子内。在真空部分，在晶片上形成模版上的图案的曝光过程中移动该可除去的盖子。

主权项

一种保护模版的系统，包括：盖子，该盖子保护模版，该盖子包括：框架，该框架将该盖子联接到该模版，并且在该框架内容纳该模版的至少一部分，该框架包括对准装置；和可复位的面板，当该模版处于曝光位置时，该可复位面板移动离开该模版，以允许光线在曝光过程中直接到达该模版，该可复位面板包括与该框架上的对准装置相对应的对准装置；所述保护模版的系统还包括吊舱，该吊舱用于将该模版与该盖子传输通过该系统，且所述吊舱提供一盒，所述盒通过将基部固定至罩而形成，所述基部支撑所述模版，所述盒保护所述模版免受污染物的污染。