发明名称 |
钨铜合金热沉基片耐焊金属膜层的制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种钨铜合金热沉基片耐焊金属膜层的制作方法,是利用气相沉积方式在钨铜合金热沉基片表面沉积引镀金膜层,再利用无氰电镀金液电镀加厚金层,从而完成耐焊金属膜层的制作。与传统方法相比,该方法采用无氰镀金液,有利于操作安全和环保;还可以简化镀前预处理且易于整合至现有的工艺,利用现有的薄膜制造工艺即可完成耐焊金属膜层的制作。 |
申请公布号 |
CN101509135B |
申请公布日期 |
2010.11.17 |
申请号 |
CN200910025261.8 |
申请日期 |
2009.02.25 |
申请人 |
无锡华测电子系统有限公司 |
发明人 |
熊焰明;刘立安;蒋明 |
分类号 |
C23C28/02(2006.01)I;C25D3/48(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I |
主分类号 |
C23C28/02(2006.01)I |
代理机构 |
无锡市大为专利商标事务所 32104 |
代理人 |
曹祖良 |
主权项 |
一种钨铜合金热沉基片耐焊金属膜层的制作方法,其特征在于,所述方法包含:步骤一,在基片上镀阻挡层;所述阻挡层的材料为镍;步骤二,在所述基片上通过电镀方式增加阻挡层膜至要求的厚度;步骤三,再气相沉积另一种金属膜层作为引镀层;所述引镀层的材料为金;步骤四,最后通过电镀方式加厚所述金属膜层至要求的厚度;电镀时所用的电镀液是亚硫酸盐镀金液。 |
地址 |
214072 江苏省无锡市滨湖区滴翠路100号2号楼401室 |