发明名称 |
托盘、托盘支承构件以及真空处理设备 |
摘要 |
本发明提供了一种托盘、托盘支承构件和真空处理设备。作为托盘支承构件,一种能够保持托盘的卡盘包括可竖直地运动的框架和臂,所述托盘能够将衬底保持在真空容器中的预定位置,所述臂从框架朝向托盘延伸并且能够支承托盘。该臂包括抵靠托盘的支承部分和形成在支承部分的面对框架的这一侧的沉孔部分。这种结构可以减少托盘的翘曲。 |
申请公布号 |
CN101819919A |
申请公布日期 |
2010.09.01 |
申请号 |
CN201010121201.9 |
申请日期 |
2010.02.11 |
申请人 |
佳能安内华股份有限公司 |
发明人 |
广见太一;村上匡章 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
张涛 |
主权项 |
一种真空处理设备,包括:托盘,其构造成保持衬底;托盘支承构件,其包括构造成支承所述托盘的臂;以及保持器,所述托盘支承构件附装到所述保持器,其中,所述臂包括:支承部分,其抵靠所述托盘的下部分;和沉孔部分,其在所述托盘的边缘的下方形成凹陷形状,以便使所述沉孔部分不抵靠所述托盘,并且当所述托盘由所述托盘支承构件支承时,所述托盘的外部侧表面的边缘定位在所述沉孔部分上方并且不接触所述托盘支承构件。 |
地址 |
日本神奈川 |