| 发明名称 | 处理基材的设备和维护该设备的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种处理基材的设备。该设备包括腔室、处理单元和排气部件。该腔室具有内部空间。该处理单元设置在该腔室的内部空间中并可通过该腔室的一侧从该腔室向外移动。该处理单元包括排气管线。该排气部件设置在该腔室中。该排气部件与该排气管线连接，该排气部件包括被设置成跟随该处理单元的移动而移动的可动排气口。 | ||
| 申请公布号 | CN101740347A | 申请公布日期 | 2010.06.16 |
| 申请号 | CN200910180191.3 | 申请日期 | 2009.11.16 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 卢亨来 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人 | 梁兴龙;武玉琴 |
| 主权项 | 一种处理基材的设备，包括：具有内部空间的腔室；处理单元，设置在所述腔室的内部空间中并可通过所述腔室的一侧从所述腔室向外移动，所述处理单元包括排气管线；以及设置在所述腔室中的排气部件，其中所述排气部件与所述排气管线连接，所述排气部件包括被设置成跟随所述处理单元的移动而移动的可动排气口。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道 | ||