非挥发SRAM单元、阵列及其操作方法和应用

摘要

本发明属于集成电路技术领域，具体为一种采用金属氧化物作为存储介质的非挥发SRAM及其应用。该非挥发SRAM以二元或者二元以上的多元金属氧化物作为非挥发存储介质，由一个传统的六管SRAM、一个存储电阻以及一个参考电阻构成；存储电阻的下电极与SRAM的一个上拉pmos管的源端耦连，上电极与电源线耦连；由一mmos选通管与存储电阻串联，该选通管栅极与该上拉pmos管栅极耦连，漏端与存储电阻的下电极耦连，源端引入一个用于对存储电阻进行操作的信号。本发明可实现存储信息的非挥发。上述非挥发SRAM可作为编程单元应用于非挥发现场可编程门阵列中。

主权项

一种非挥发静态随机存取存储单元，其特征在于以二元或者二元以上的多元金属氧化物作为非挥发存储介质，由一个传统的六管SRAM、一个存储电阻以及一个参考电阻构成；其中，存储电阻的下电极与SRAM的一个上拉pmos管的源端耦连，上电极与电源线耦连；由一nmos选通管与存储电阻串联，该选通管栅极与该上拉pmos管栅极耦连，漏端与存储电阻的下电极耦连，源端引入一个用于对存储电阻进行操作的信号；参考电阻的一端与SRAM的另一个上拉pmos管的源端耦连，另一端与电源线耦连。