光学设备和原位处理EUV光学部件以增强降低的反射率的方法

摘要

本发明涉及光学设备和原位处理所述光学设备中的反射EUV和/或软X射线辐射的光学部件(2，6，13)的方法，所述光学部件(2，6，13)设置在所述光学设备的真空室(14)中并且包括一个或多个具有一种或多种表面材料的顶层的反射表面(3)。在该方法中，在所述光学设备的所述室(14)中提供所述一种或多种表面材料的源(1，5)，并且在所述光学设备的操作期间和/或操作暂停期间将来自所述源(1，5)的表面材料沉积到所述一个或多个反射表面(3)上，以便覆盖或取代沉积的污染物材料和/或补偿消融的表面材料。

主权项

1.原位处理光学设备中的反射EUV和/或软X射线辐射的光学部件(2，6，13)的方法，所述光学部件(2，6，13)设置在所述光学设备的真空室(14)中并且包括一个或多个具有一种或多种表面材料的顶层的反射表面(3)，该方法包括步骤：-在所述光学设备的所述室(14)中提供所述一种或多种表面材料的至少一个源(1，5)，以及-在所述光学设备的操作期间和/或操作暂停期间将来自所述源(1，5)的表面材料沉积到所述一个或多个反射表面(3)上，以便覆盖或取代沉积的污染物材料和/或补偿消融的表面材料。