| 发明名称 | 充电装置和成像装置 | ||
| 摘要 | 公开了充电装置和成像装置。该充电装置用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电。该充电装置包括：磁性粒子承载构件，用于通过磁力承载磁性粒子，所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分，所述绝缘部分用于使所述绝缘部分上承载的磁性粒子与所述磁性粒子承载构件电绝缘；和导电构件，用于接触承载在所述绝缘部分上的磁性粒子，所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。 | ||
| 申请公布号 | CN101661246A | 申请公布日期 | 2010.03.03 |
| 申请号 | CN200910174612.1 | 申请日期 | 2007.08.24 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 堀田真吾;中村良;桥本浩一 |
| 分类号 | G03G15/02(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人 | 刘新宇 |
| 主权项 | 1.一种充电装置，用于通过使磁性粒子与待充电构件接触来为所述待充电构件进行充电，所述充电装置包括：磁性粒子承载构件，用于通过磁力承载磁性粒子；其中，所述磁性粒子承载构件在其纵向端部处设有绝缘部分，所述绝缘部分用于使所述绝缘部分上承载的磁性粒子与所述磁性粒子承载构件电绝缘；以及导电构件，用于与承载在所述绝缘部分上的磁性粒子接触，其中，所述导电构件的电位的绝对值小于施加到所述磁性粒子承载构件上的电压的绝对值。 | ||
| 地址 | 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号 | ||