无水迹基片清洗干燥装置

摘要

一种无水迹基片清洗干燥装置，基片清洗容器和基片气体干燥室用于清洗基片和对基片进行室温干燥气体干燥，基片干燥容器用于对基片进行高温干燥气体干燥，基片传递组件用于将基片从基片清洗容器传送至基片干燥容器。采用室温干燥气体和高温干燥气体的二步干燥法，能够满足工艺对基片相对湿度的要求；利用基片支撑架的底部支撑块上部的刀尖状，有效地减小或消除了基片底部的水迹；从而提高设备的生产效率和基片的成品率。

主权项

1.一种无水迹基片清洗干燥装置，其特征是，其包括：基片清洗容器，用于清洗基片；基片气体干燥室，用于基片从基片清洗容器中提升时供给室温干燥气体；基片干燥容器，用于供给高温干燥气体对基片进行高温气体干燥；以及基片传递组件，用于将基片从基片清洗容器传送至基片干燥容器；其中，基片气体干燥室布置在基片清洗容器的上方，基片清洗容器与基片干燥容器并行排列，基片传递组件布置在基片清洗容器与基片干燥容器的一侧。