发明名称 显影装置
摘要 一种显影装置,包括承载一种成分的显影剂的显影剂承载体;与显影剂承载体抵接以限制所承载的显影剂层厚度的显影剂限制部件;显影剂承载体表面粗糙度满足3.0≤Rpk≤9;2≤Pc2≤10,记数水准=显影剂平均粒径/2;至少在显影剂承载体与显影剂限制部件的抵接部,显影剂限制部件表面粗糙度满足0.030≤Sm≤0.170;0.10≤Rvk×(100-Mr2)/100≤1.30;Sm为凹凸的平均间隔[mm],Rpk为初期磨损高度[μm],Rvk为油积存深度[μm],Mr2为负荷长度率2[%],Pc2由接触式表面粗糙度测定仪测定,是粗糙度曲线中位于每1mm评价长度中的从中心线起记数水准以上的高度的峰的数量。
申请公布号 CN100524075C 申请公布日期 2009.08.05
申请号 CN200710078713.X 申请日期 2007.02.25
申请人 佳能株式会社 发明人 马场大辅;吉田雅弘
分类号 G03G15/08(2006.01)I;G03G9/083(2006.01)I;G03G9/10(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I 主分类号 G03G15/08(2006.01)I
代理机构 北京怡丰知识产权代理有限公司 代理人 于振强
主权项 1. 一种显影装置,包括:承载一种成分的显影剂的显影剂承载体;与上述显影剂承载体抵接,对被承载在上述显影剂承载体上的显影剂的层的厚度进行限制的显影剂限制部件;在此,上述显影剂承载体的表面的表面粗糙度参数满足式子(1)、(2):3. 0≤Rpk≤9.0...(1)2≤Pc2≤10. ..(2)其中,记数水准=显影剂的平均粒径/2,评价长度=1mm,显影剂的平均粒径的单位是μm,至少在上述显影剂承载体与上述显影剂限制部件之间的抵接部,上述显影剂限制部件的表面的表面粗糙度参数满足式子(3)、(4):0. 030≤Sm≤0.170...(3)0. 10≤Rvk×(100-Mr2)/100≤1.30...(4)其中,Sm为按JIS-B0601-1994规定的凹凸的平均间隔,单位是mm,Rpk为按DIN4776规定的初期磨损高度,单位是μm,Rvk为按DIN4776规定的油积存深度,单位是μm,Mr2为按DIN4776规定的负荷长度率2,单位是%,Pc2为以株式会社小坂研究所制的接触式表面粗糙度测定仪SE3500测定的参数,是在粗糙度曲线中位于每1mm评价长度中的从中心线起等于显影剂的平均粒径/2的所述记数水准以上高度的峰的个数。
地址 日本东京都