发明名称 Multilayer active mask lithography
摘要 An active mask emits a patterned energy flux in response to an energy input.
申请公布号 US2009117475(A1) 申请公布日期 2009.05.07
申请号 US20080287682 申请日期 2008.10.10
申请人 SEARETE LLC, A LIMITED LIABILITY CORPORATION OF THE STATE OF DELAWARE 发明人 HYDE RODERICK A.;MYHRVOLD NATHAN P.
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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