发明名称 |
Apparatus and Method for Deposition For Organic Thin Films |
摘要 |
The invention provides apparatus and methods for organic continuum vapor deposition of organic materials on large area substrates.
|
申请公布号 |
US2009047429(A1) |
申请公布日期 |
2009.02.19 |
申请号 |
US20080030362 |
申请日期 |
2008.02.13 |
申请人 |
FORREST STEPHEN R;YANG FAN;LUNT RICHARD |
发明人 |
FORREST STEPHEN R.;YANG FAN;LUNT RICHARD |
分类号 |
C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/44 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|