发明名称 光刻照明装置及照明方法
摘要 本发明提供了一种基于空间光调制器的光刻照明装置及照明方法,采用SLM(液晶空间光调制器)来衍射产生各种照明光瞳形貌。每个像素对光波相位的调制可通过寻址电压来进行控制,并且具有可编程控制的特点,可以利用优化算法,优化设计SLM的相位值来产生任意的照明光瞳形貌。无需针对不同的照明模式来离线设计衍射光学元件,无需设置机械转盘,操作灵活,只需计算机编程进行在线控制,具有较高的响应速度,提高了产率。本发明可以提供更多的照明光瞳形貌,满足了一些特殊光刻线条的需要。本发明可灵活改变入射光波的偏振方向,在具有较大数值孔径的浸液光刻系统中可提供偏振照明。
申请公布号 CN101364048A 申请公布日期 2009.02.11
申请号 CN200810042099.6 申请日期 2008.08.27
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 郭勇
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/00(2006.01);G02F1/13(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 上海思微知识产权代理事务所 代理人 屈蘅;李时云
主权项 1.一种光刻照明装置,按光束传播的方向依次包括:光源系统,用以产生照射光束;空间光调制系统,包括空间光调制器和控制设备;匀光系统,用于控制照射光束;掩模;其特征在于:所述光源系统发出照射光束,经过所述空间光调制器、匀光系统,照射所述掩模。
地址 201203上海市张江高科技园区张东路1525号
您可能感兴趣的专利