发明名称 基板洗净装置及基板洗净方法、和基板洗净程序及程序记录媒体
摘要 本发明的基板洗净装置具备多个洗净装置;和根据预定的驱动方案驱动控制各洗净装置的控制装置。控制装置对洗净装置设定优先顺序,根据上位洗净装置的驱动方案与下位洗净装置的驱动方案,计算出能够在洗净装置之间产生干扰的时间,并设定为计算出的待机时间。由上位洗净装置从规定的洗净开始位置开始基板的洗净,使下位洗净装置待机在规定的待机位置。在从上位洗净装置的洗净开始时起算经过了待机时间时或之后,使下位洗净装置从待机位置开始移动,由下位洗净装置开始基板的洗净。
申请公布号 CN101283440A 申请公布日期 2008.10.08
申请号 CN200680037320.8 申请日期 2006.09.20
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 泷本雄二
分类号 H01L21/304(2006.01);G02F1/13(2006.01);B08B3/00(2006.01) 主分类号 H01L21/304(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 刘杰;刘宗杰
主权项 1.一种基板洗净装置,其特征在于:具备用于进行基板洗净的多个洗净装置;和根据预定的驱动方案驱动控制各洗净装置的控制装置,所述控制装置对多个洗净装置设定优先顺序,根据优先顺序为上位的洗净装置的驱动方案与优先顺序为下位的洗净装置的驱动方案,计算出能够在上位洗净装置与下位洗净装置之间产生干扰的时间,将计算出的时间设定为待机时间,由上位洗净装置从规定的洗净开始位置向所述基板外周部开始所述基板的洗净,使下位洗净装置待机在规定的待机位置,在从上位洗净装置的洗净开始时起算经过了所述待机时间时或之后,使下位洗净装置从待机位置开始移动,由下位洗净装置从规定的洗净开始位置向所述基板的外周部开始所述基板的洗净。
地址 日本东京都