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经营范围
发明名称
半导体雷射装置
摘要
本发明揭露一种半导体雷射装置,其在涂膜与半导体之间具有容易形成的黏着层,其包含:一共振器,沿着雷射光的行进方向所设置;一前端面8,设置于上述共振器的一端,并发射出上述雷射光;以及一后端面9,设置于上述共振器的另一端。在前端面8与后端面9分别形成有黏着层21、23及涂膜(coating film)22、24。黏着层21、23较好为由铝、钛、铌、锆、钽、矽、或铪的阳极氧化膜所构成,其厚度较好为10nm以下。
申请公布号
TW200843266
申请公布日期
2008.11.01
申请号
TW097105015
申请日期
2008.02.13
申请人
三菱电机股份有限公司
发明人
吉田保明
分类号
H01S5/323(2006.01);H01S5/028(2006.01)
主分类号
H01S5/323(2006.01)
代理机构
代理人
洪澄文
主权项
地址
日本
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