发明名称 半导体雷射装置
摘要 本发明揭露一种半导体雷射装置,其在涂膜与半导体之间具有容易形成的黏着层,其包含:一共振器,沿着雷射光的行进方向所设置;一前端面8,设置于上述共振器的一端,并发射出上述雷射光;以及一后端面9,设置于上述共振器的另一端。在前端面8与后端面9分别形成有黏着层21、23及涂膜(coating film)22、24。黏着层21、23较好为由铝、钛、铌、锆、钽、矽、或铪的阳极氧化膜所构成,其厚度较好为10nm以下。
申请公布号 TW200843266 申请公布日期 2008.11.01
申请号 TW097105015 申请日期 2008.02.13
申请人 三菱电机股份有限公司 发明人 吉田保明
分类号 H01S5/323(2006.01);H01S5/028(2006.01) 主分类号 H01S5/323(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本