发明名称 半导体器件
摘要 本发明公开了一种半导体器件。本发明的目的是实现其中密封功率MOSFET的小表面安装封装的导通电阻的减小。硅芯片安装在与构成漏极引线的引线集成的芯片焊盘部上。硅芯片的主表面上具有源极焊盘和栅极焊盘。硅芯片的背面构成功率MOSFET的漏极,并经由Ag浆料键合至芯片焊盘部的顶表面。构成源极引线的引线经由Al带电耦合至源极焊盘,而构成栅极引线的引线经由Au线电耦合至栅极焊盘。
申请公布号 CN101295687A 申请公布日期 2008.10.29
申请号 CN200810093595.4 申请日期 2008.04.25
申请人 株式会社瑞萨科技 发明人 武藤邦治;波多俊幸;佐藤仁久;冈浩伟;池田靖
分类号 H01L23/48(2006.01);H01L23/485(2006.01);H01L23/495(2006.01);H01L23/31(2006.01) 主分类号 H01L23/48(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 杜娟
主权项 1.一种半导体器件,包含:半导体芯片,安装在引线框的芯片焊盘部上,并密封在树脂封装中;以及从所述树脂封装露出的所述引线框的外引线部,其中所述引线框具有栅极引线、源极引线、漏极引线、以及与所述漏极引线集成的所述芯片焊盘部,其中所述半导体芯片在其主表面上具有:栅极焊盘,耦合至功率MOSFET的栅电极;和源极焊盘,耦合至所述功率MOSFET的源极且具有比所述栅极焊盘大的面积,其中所述半导体芯片的背面形成所述功率MOSFET的漏极,所述半导体芯片的背面利用Ag浆料键合到所述芯片焊盘部,并且其中所述源极引线和所述源极焊盘经由Al带耦合。
地址 日本东京