发明名称 |
精密微细空间的形成方法、具有精密细空间之构件的制造方法及感光性积层膜 |
摘要 |
提供一种具有一定形状及体积之精密微细空间的形成方法、及具有精密微细空间(具有一定形状及体积)之构件的制造方法。一种精密微细空间的形成方法,系具有在基材(具有精密微细凹部)上舖设薄膜的步骤之精密微细空间的形成方法,系藉由以下步骤来形成具有一定形状及体积之精密微细空间,包含:在第一载物台上载置基材,并设定成使得用以围住第一载物台的外周之第二载物台的最上面,比第一载物台的最上面更高之步骤;以及在基材上舖设薄膜之步骤。 |
申请公布号 |
TW200831299 |
申请公布日期 |
2008.08.01 |
申请号 |
TW096122177 |
申请日期 |
2007.06.20 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
山之内笃史;三隅浩一;先崎尊博;斋藤宏二 |
分类号 |
B41J2/16(2006.01);B41J2/465(2006.01) |
主分类号 |
B41J2/16(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |