发明名称 精密微细空间的形成方法、具有精密细空间之构件的制造方法及感光性积层膜
摘要 提供一种具有一定形状及体积之精密微细空间的形成方法、及具有精密微细空间(具有一定形状及体积)之构件的制造方法。一种精密微细空间的形成方法,系具有在基材(具有精密微细凹部)上舖设薄膜的步骤之精密微细空间的形成方法,系藉由以下步骤来形成具有一定形状及体积之精密微细空间,包含:在第一载物台上载置基材,并设定成使得用以围住第一载物台的外周之第二载物台的最上面,比第一载物台的最上面更高之步骤;以及在基材上舖设薄膜之步骤。
申请公布号 TW200831299 申请公布日期 2008.08.01
申请号 TW096122177 申请日期 2007.06.20
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 山之内笃史;三隅浩一;先崎尊博;斋藤宏二
分类号 B41J2/16(2006.01);B41J2/465(2006.01) 主分类号 B41J2/16(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 日本