处理气体供给机构及处理气体供给方法以及气体处理装置

摘要

提供可以以短时间供给使处理容器内成为设定压力之处理气体的处理气体供给机构。处理气体供给机构3具备：用以将作为处理气体之He气体供给至作为收容基板G之处理容器之腔室2内的He气体供给源30；用以暂时性贮留来自He气体供给源30之He气体之处理气体槽33；将来自He气体供给源30之He气体送给至处理气体槽33，并将处理气体槽33内之He气体送给至腔室2内之处理气体构件35，He气体经处理气体输送构件35自He气体供给源30暂时贮留于处理气体槽33，自处理体槽33供给至腔室2内。