| 发明名称 | 地板处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种地板处理系统，其包括一个自行走及自控制的地板处理单元和一个中心充电站，所述地板处理单元包括一个电驱动的地板处理机组、一个可重复充电的供能单元和一个电控系统，所述中心充电站用以给供能单元再充电，其中，充电站具有一个发射一种红外目标辐射的发射装置，地板处理单元的一个接收装置在一定方向上可以接收到该目标辐射，用以使地板处理单元在充电站处自动对准和定位。为了使地板处理单元能够可靠地驶向中心充电站，本发明提出，发射装置具有一个形成目标辐射的远场的第一发射单元和一个形成目标辐射的近场的第二发射单元，其中，与远场相比，近场从充电站出发延伸的区域更宽且更短。 | ||
| 申请公布号 | CN100388142C | 申请公布日期 | 2008.05.14 |
| 申请号 | CN03816084.6 | 申请日期 | 2003.06.13 |
| 申请人 | 阿尔弗莱德凯歇尔有限公司及两合公司 | 发明人 | 拉尔夫·迪尔;约阿希姆·开普勒;罗格·斯库马尔;戈特弗里德·本茨勒 |
| 分类号 | G05D1/02(2006.01) | 主分类号 | G05D1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 张兆东 |
| 主权项 | 1.地板处理系统，其包括一个自行走及自控制的地板处理单元和一个中心充电站，所述地板处理单元包括一个电驱动的地板处理机组、一个可重复充电的供能单元和一个电控系统，所述中心充电站用以给供能单元再充电，其中，中心充电站具有一个发射一种红外目标辐射的发射装置，地板处理单元的一个接收装置在一定方向上可以接收到该目标辐射，用以使地板处理单元在中心充电站处自动对准和定位，其特征在于，所述发射装置具有一个形成目标辐射的远场(103)的第一发射单元(90)和一个形成目标辐射的近场(110)的第二发射单元(92)，其中，与远场相比，近场(110)从中心充电站(14)出发延伸的区域更宽且更短。 | ||
| 地址 | 德国温嫩登 | ||