| 发明名称 | 高解析度负型光阻剂 | ||
| 摘要 | 本发明的负型光阻剂为一种新的光阻组成，其主要成分为：高分子树脂(Resin)、颜料(Pigment)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)，以及添加剂(Additives)；其中，高分子树脂(Resin)的分子量(Mw)最好低于40,000，而且使用水溶性单体增加显影对比，俾在光阻图像(Pattern)成像后，能够有效缩短光阻的图像斜边(Taper)长度，使光阻层图像的线宽(CD)值愈接近光罩图像大小，进而获致较佳的解析度。 | ||
| 申请公布号 | CN101154043A | 申请公布日期 | 2008.04.02 |
| 申请号 | CN200610152352.4 | 申请日期 | 2006.09.26 |
| 申请人 | 新应材股份有限公司 | 发明人 | 郭光埌;戴伟仁;温世豪;陈健龙;赖育成 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01);G03F7/004(2006.01) | 主分类号 | G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人 | 周春发 |
| 主权项 | 1.一种光阻剂，是由高分子树脂、颜料、感光起始剂、单体、溶剂，以及添加剂所组成；其中，该高分子树脂为分子量低于40,000。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县龙潭乡三和村新和路455号 | ||