| 发明名称 | 研磨剂及研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种研磨剂，其包含使4价金属氢氧化物粒子分散在介质中而得到的浆料和添加剂，所述添加剂为含有从由通式(I)以及通式(II)所表示的单体中选出的至少一种单体成分的聚合物。通式(I)中R<SUB>1</SUB>表示氢、甲基、苯基、苯甲基、氯基、二氟甲基、三氟甲基、氰基，R<SUB>2</SUB>、R<SUB>3</SUB>独立地分别表示氢或C<SUB>1</SUB>～C<SUB>18</SUB>的烷基链、羟甲基、乙酰基、双丙酮基，但不包括两个均为氢的情况。通式(II)中，R<SUB>1</SUB>与通式(I)一样，R<SUB>4</SUB>表示吗啉基、硫化吗啉基、吡咯烷基、哌啶子基。本发明提供的研磨剂，由粒子与被研磨膜形成化学反应层，由于粒子非常小的机械作用和研磨垫的机械除去而不产生研磨损伤，并通过添加剂来实现高平坦化。 | ||
| 申请公布号 | CN100373556C | 申请公布日期 | 2008.03.05 |
| 申请号 | CN200480014467.6 | 申请日期 | 2004.05.28 |
| 申请人 | 日立化成工业株式会社 | 发明人 | 小山直之;町井洋一;吉田诚人;深泽正人;芦泽寅之助 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);B24B37/00(2006.01);C09K3/14(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人 | 钟晶 |
| 主权项 | 1.一种研磨剂，其包含使4价金属氢氧化物粒子分散在介质中而得到的浆料和添加剂，其特征在于：所述添加剂为含有从由通式(I)以及通式(II)所表示的单体中选出的至少一种单体成分的聚合物，<img file="C2004800144670002C1.GIF" wi="567" he="433" />通式(I)中R<sub>1</sub>表示氢、甲基、苯基、苯甲基、氯基、二氟甲基、三氟甲基或者氰基之一，R<sub>2</sub>、R<sub>3</sub>独立地分别表示氢或C<sub>1</sub>～C<sub>18</sub>的烷基链、羟甲基、乙酰基或者双丙酮基之一，但不包括两个均为氢的情况，<img file="C2004800144670002C2.GIF" wi="560" he="339" />通式(II)中，R<sub>1</sub>与通式(I)中的R<sub>1</sub>一样，R<sub>4</sub>表示吗啉基、硫化吗啉基、吡咯烷基、哌啶子基。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||