储存电容及其形成方法与包含该储存电容之显示器

摘要

一种储存电容的形成方法，包括：依序形成一半导体层以及一第一介电层于一基板上；形成一图案化光阻层于该第一介电层上，且该图案化光阻包括一第一区以及一第二区系邻近于该第一区；移除未被该图案化光阻层所遮蔽之该第一介电层及该半导体层；移除该第一区，用以露出该第一介电层；以该第二区作为遮罩进行一掺杂制程，形成至少一掺杂区于部分该半导体层中，用以作为一第一电极；移除该第二区；依序形成一第二介电层以及一导电层，覆盖该基板及该第一介电层；以及图案化该导电层，用以形成一第二电极，且实质上对应于该第一电极。