| 主权项 |
1.一种2-甲基-2-三唑基甲基青霉烷-3-羧酸二苯甲基 酯结晶,其系于以通过单色器且=1.5418之铜放 射线所得之X射线粉末绕射图形,以下列晶格面间 隔具有峰値者; d(晶格面间隔) 9.492~9.552 7.540~7.600 6.344~6.404 5.033~5.093 4.883~4.943 4.716~4.776 4.388~4.448 4.311~4.371 4.208~4.268 3.971~4.031 3.762~3.822 3.574~3.634 3.160~3.220。 2.如申请专利范围第1项之2-甲基-2-三唑基甲基青 霉烷-3-羧酸二苯甲基酯结晶,其中该以通过单色器 且=1.5418之铜放射线所得之X射线粉末绕射图 形为下列所示之X线粉末绕射图形者; d(晶格面间隔) 相对强度(I/I0) 9.492~9.552 1.00 7.540~7.600 0.32~0.47 6.344~6.404 0.10~0.16 5.033~5.093 0.46~0.55 4.883~4.943 0.10~0.19 4.716~4.776 0.35~0.65 4.388~4.448 0.20~0.22 4.311~4.371 0.19~0.25 4.208~4.268 0.19~0.31 3.971~4.031 0.13~0.19 3.762~3.822 0.05~0.07 3.574~3.634 0.11~0.17 3.160~3.220 0.06~0.09。 3.一种2-甲基-2-三唑基甲基青霉烷-3-羧酸二苯甲基 酯结晶之制造方法,其系将含有以结构式(2)表示之 2-甲基-2-三唑基甲基青霉烷-3-羧酸二苯甲基酯之 溶液浓缩后,再以至少一种乙酸酯类稀释该浓缩液 ,并将该稀释液与由至少一种己烷类所构成之溶剂 、或与由至少一种己烷类及至少一种乙酸酯类所 构成之溶剂混合,再结晶析出2-甲基-2-三唑基甲基 青霉烷-3-羧酸二苯甲基酯者; [式中,Ph系表示苯基]。 |
