| 主权项 |
1.一种重复结构之光学量测用的模型化方法,该重 复结构系形成于一晶圆上,该方法包含以下步骤: a)定义该重复结构之复数个单位晶胞构型,每一单 位晶胞构型系藉由一或更多单位晶胞参数加以定 义,其中该单位晶胞构型之每一者彼此至少有一单 位晶胞参数不同; b)基于一或更多选择准则、自该复数个单位晶胞 构型选择一单位晶胞构型;及 c)利用该所选择单位晶胞构型来特征化该重复结 构之上视图轮廓。 2.如申请专利范围第1项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,其中该一或更多单位晶胞参数包含 间距、面积、及间距角。 3.如申请专利范围第2项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,其中该一或更多选择准则包含最小 间距、最小面积、及/或与90度差异最小的间距角 。 4.如申请专利范围第3项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,更包含以下步骤: 自该复数个单位晶胞构型选择具有该最小间距之 单位晶胞构型; 假如多个单位晶胞构型具有相同最小间距,就选择 具有最小面积之单位晶胞构型;及 假如多个单位晶胞构型具有相同最小面积,就选择 具有与90度差异最小之间距角的单位晶胞构型。 5.如申请专利范围第1项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,其中特征化上视图轮廓包含以下步 骤: 将一或更多基本形状拟合至该选择之单位晶胞构 型中所包含的一或更多特征部之一或更多部分的 该上视图轮廓。 6.如申请专利范围第1项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,更包含以下步骤: 基于绕射信号敏感度而最佳化量测装置变数。 7.如申请专利范围第6项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,其中最佳化量测装置变数包含以下 步骤: 选择一或更多该量测装置变数;及 在对应范围中改变该选择之一或更多量测装置变 数的数値,但仍将任意未选择之量测装置变数保持 为常数。 8.如申请专利范围第7项之重复结构之光学量测用 的模型化方法,其中该一或更多量测装置变数包含 方位角、入射角、波长范围、及/或量测硬体设定 变数。 9.一种重复结构之轮廓参数的决定方法,该方法系 利用一光学量测模型,且该重复结构系形成于晶圆 上,该光学量测模型具有与该结构之上视图相关联 之轮廓参数以及与该结构之横剖面视图相关联之 轮廓参数,该方法包含以下步骤: a)定义该重复结构之复数个单位晶胞构型,每一单 位晶胞构型系藉由一或更多单位晶胞参数加以定 义,其中该单位晶胞构型之每一者彼此至少有一单 位晶胞参数不同; b)基于一或更多选择准则、自该复数个单位晶胞 构型选择一单位晶胞构型; c)利用该所选择单位晶胞构型来特征化该重复结 构之上视图轮廓; d)就该所选择单位晶胞构型而言,最佳化绕射信号 敏感度用之量测装置变数; e)选择轮廓参数来表示对应于该所选择单位晶胞 构型之该结构之该上视图轮廓中的变化; f)选择与该结构之一横剖面视图轮廓相关联的轮 廓参数; g)将代表该结构之该上视图轮廓及该横剖面视图 轮廓之该所选择轮廓参数整合至一光学量测模型; h)将该光学量测模型最佳化; i)最佳化光学量测模型建立一组轮廓参数及模拟 绕射信号; j)组建立之模拟绕射信号与一或更多量测绕射信 号来取出一最匹配之模拟绕射信号; k)当该最匹配之模拟绕射信号与该量测绕射信号 在一或更多匹配准则内不相匹配时,则修正该轮廓 参数之特征化及/或选择; l)重复e)、f)、g)、h)、i)、j)及k),直到该最匹配之 模拟绕射信号与该量测绕射信号在该一或更多匹 配准则内相匹配为止。 10.如申请专利范围第9项之重复结构之轮廓参数的 决定方法,其中选择一单位晶胞构型之步骤包含: 自该复数个单位晶胞构型选择具有最小间距之单 位晶胞构型; 假如多个单位晶胞构型具有相同最小间距,就选择 具有最小面积之单位晶胞构型;及 假如多个单位晶胞构型具有相同最小面积,就选择 具有与90度差异最小之间距角的单位晶胞构型。 11.如申请专利范围第9项之重复结构之轮廓参数的 决定方法,其中最佳化量测装置变数包含以下步骤 : 选择一或更多该量测装置变数;及 对应范围中改变该选择之一或更多量测装置变数 的数値,但仍将任意未选择之量测装置变数保持为 常数。 12.如申请专利范围第11项之重复结构之轮廓参数 的决定方法,其中该一或更多量测装置变数包含方 位角、入射角、波长范围、及/或量测硬体设定变 数。 13.如申请专利范围第11项之重复结构之轮廓参数 的决定方法,其中该绕射信号敏感度系表示为:相 对于量测装置变数之每单位变化,该模拟绕射信号 中之变化。 14.如申请专利范围第11项之重复结构之轮廓参数 的决定方法,其中该绕射信号敏感度系以总合平方 误差制量加以表示。 15.如申请专利范围第9项之重复结构之轮廓参数的 决定方法,其中利用该最佳化光学量测模型建立一 训练资料组,该训练资料组包含机械语言系统用之 轮廓参数与对应的模拟绕射信号。 16.如申请专利范围第9项之重复结构之轮廓参数的 决定方法,其中利用该最佳化光学量测模型以回归 技术来决定对应于量测绕射信号的轮廓参数。 17.如申请专利范围第9项之重复结构之轮廓参数的 决定方法,其中利用该最佳化光学量测模型建立轮 廓参数与对应之绕射信号的程式库。 18.如申请专利范围第17项之重复结构之轮廓参数 的决定方法,其中利用该轮廓参数与对应之绕射信 号的程式库决定来自量测绕射信号的轮廓参数,该 量测绕射信号系自连接于制造单位的量测系统加 以获得。 19.一种模型化形成于晶圆上之重复结构的系统,该 系统包含: 一单位晶胞构型选择器,用以定义重复结构之复数 个单位晶胞构型,并基于一或更多选择准则来选择 该复数个单位晶胞构型之其中一者,其中每一单位 晶胞构型系藉由一或更多单位晶胞参数加以定义, 且其中该单位晶胞构型之每一者彼此至少有一单 位晶胞参数不同;及 一预处理器,系连接于该单位晶胞构型选择器,其 中该预处理器系利用该所选择单位晶胞构型而用 以特征化该重复结构之上视图轮廓。 20.如申请专利范围第19项之模型化形成于晶圆上 之重复结构的系统,其中该单位晶胞构型选择器系 用以进行以下步骤: 自该复数个单位晶胞构型选择具有最小间距之单 位晶胞构型; 假如多个单位晶胞构型具有相同最小间距,就选择 具有最小面积之单位晶胞构型;及 假如多个单位晶胞构型具有相同最小面积,就选择 具有与90度差异最小之间距角的单位晶胞构型。 21.如申请专利范围第19项之模型化形成于晶圆上 之重复结构的系统,更包含: 一信号敏感度最佳化器,系连接于该单位晶胞构型 选择器,其中该信号敏感度最佳化器用以最佳化绕 射信号敏感度用之量测装置变数;及 一模型最佳化器,系连接于该预处理器,其中该模 型最佳化器系用以最佳化一光学量测模型,该光学 量测模型系基于该重复结构之该上视图轮廓的该 特征而加以定义者。 22.如申请专利范围第19项之模型化形成于晶圆上 之重复结构的系统,更包含: 一光学量测装置,用以自该重复结构获得一量测绕 射信号;及 一比较器,用以将该量测绕射信号与利用该光学量 测模型所产生的模拟绕射信号相比较。 23.一种电脑可读之储存媒体,其包含使电脑模型化 形成于晶圆上之重复结构以进行光学量测的电脑 可执行之指令,其包含以下指令: a)重复结构之复数个单位晶胞构型,每一单位晶胞 构型系藉由一或更多单位晶胞参数加以定义,其中 该单位晶胞构型之每一者彼此至少有一单位晶胞 参数不同; b)准则、自该复数个单位晶胞构型选择一单位晶 胞构型;及 c)利用该所选择单位晶胞构型来特征化该重复结 构之上视图轮廓。 24.如申请专利范围第23项之电脑可读之储存媒体, 其中选择一单位晶胞构型之指令包含以下指令: 自该复数个单位晶胞构型选择具有最小间距之单 位晶胞构型; 假如多个单位晶胞构型具有相同最小间距,就选择 具有最小面积之单位晶胞构型;及 假如多个单位晶胞构型具有相同最小面积,就选择 具有与90度差异最小之间距角的单位晶胞构型。 25.如申请专利范围第23项之电脑可读之储存媒体, 其中特征化上视图轮廓之指令包含以下指令: 将一或更多基本形状拟合至该所选择单位晶胞构 型中所包含的一或更多特征部之一或更多部分的 该上视图轮廓。 26.如申请专利范围第23项之电脑可读之储存媒体, 更包含以下指令: 基于绕射信号敏感度而最佳化量测装置变数。 27.如申请专利范围第23项之电脑可读之储存媒体, 其中最佳化量测装置变数之指令包含以下指令: 选择一或更多该量测装置变数;及 在对应范围中改变该选择之一或更多量测装置变 数的数値,但仍将任意未选择之量测装置变数保持 为常数。 28.如申请专利范围第27项之电脑可读之储存媒体, 其中该一或更多量测装置变数包含方位角、入射 角、波长范围、及/或量测硬体设定变数。 图式简单说明: 图1系一示范性光学量测系统之方块图。 图2A至2E系一示范性横剖面视图轮廓,其用于表示 形成于半导体晶圆上之结构的特征。 图3A至3D描绘一示范性重复结构。 图4A与4B描绘示范性单位晶胞之正交晶胞与非正交 晶胞的上视图。 图5描绘示范性单位晶胞,其包含在重复结构中一 者以上之特征部。 图6描绘典型地用于特征化示范性重复结构的角度 。 图7A描绘一重复结构之上视图轮廓。 图7B描绘该重复结构之横剖面视图。 图8描绘一示范性非正交重复结构之单位晶胞中的 多重特征部。 图9描绘在单位晶胞中之特征部之偏差,该偏差系 自示范性重复结构之正交单位晶胞的理论中心起 算。 图10A描绘在单位晶胞中之特征部的宽度比例。 图10B描绘在单位晶胞中之特征部的矩形性特征。 图11系重复结构用之轮廓形状变化性资料的示范 性收集处理之流程图。 图12系重复结构之光学量测模型的示范性最佳化 处理之流程图。 图13系一示范性技术用以特征化重复结构之单位 晶胞的上视图。 图14系一示范性技术用以特征化具有多重特征部 之重复结构的上视图。 图15系一示范性系统,用以使重复结构之光学量测 模型最佳化。 图16A与16B描绘示范性单位晶胞构型。 图17A与17B描绘示范性单位晶胞构型。 图18系重复结构之光学量测模型的示范性最佳化 方法的方块图。 图19系重复结构之光学量测模型的示范性最佳化 的系统。 |
